近日，技术中心科研团队经过技术攻关，攻克钨钼分离关键技术，成功制备出了钨含量低于30ppm高纯氧化钼。该产品的成功研制，标志着公司钼提纯技术有了实质性突破，也为进一步超高纯Mo的研制成功打下坚实基础。

　　低钨高纯氧化钼是制备超高纯Mo的原料。超高纯Mo广泛应用于电子、纳米技术、检测分析等领域。长期以来，由于钨钼性质相似，分离困难，致使高纯氧化钼中钨含量维持在100ppm左右。技术中心团队通过研究钨、钼物理化学性质和钨、钼化合物物理化学性质及其化合物之间相互转化的基本规律，运用钨、钼化合物之间转化规律差别，精准控制氧化钼制备参数，成功制备出了钨含量低于30ppm的高纯氧化钼。